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multikristalline Silicium - Sputtertargets Reinheit mind. 99,999 %

multikristalline Silicium - Sputtertargets Reinheit mind. 99,999 %

Hochwertige Sputtertargets aus multikristallinem Silicium gefertigt nach Kundenwunsch in Form und Material, direkt vom Hersteller. Wir fertigen hochwertige Sputtertargets aus multikristallinem Silicium frei nach Kundenwunsch. Dank unseres umfangreichen Lagers können wir neben Standardmaterialen (z.B. p-Typ/Bor-dotiert) auch exotische Spezifikationen (z.B. n-Typ/Phosphor-dotiert) anbieten. Ob rund oder eckig, segmentiert oder monolithisch, geschliffen oder poliert, gefast oder mit Radius, ... wir fertigen direkt nach Kundenwunsch Einzelteile oder Serien anhand von Zeichnungen, CAD-Files oder Maßangaben. Wir freuen uns auf Ihre Anfrage. a) Material: Silicium, multikristallin b) Reinheit: mind. 5N (99,999 %) c) Leitungstyp/ Dotierung: p-leitend/ Bor-dotiert (weitere auf Anfrage) d) spez. Widerstand: ca. 0,01 Ωcm / ca. 1 Ωcm e) Toleranzen: nach DIN ISO 2768 mk oder Vorgabe f) Prüfbescheinigung/ Analyse: nach DIN EN 10204 auf Anfrage